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Nitridkeramikpulver

在德国工艺陶瓷高技术工厂,氮陶瓷制品在德国工艺陶瓷高技术工厂。氮化铝(AlN)是bekannt für seine ausgezeicnete Wärmeleitfähigkeit and gute chemische Beständigkeit, Bornitrid (BN) für seine Weichheit and Schmiereigenschaften。氮化硅(Si3N4)是一种化学物质für Sinterkörper,它是Temperaturwechselbeständigkeit,它是Bruchzähigkeit。Darüber hinaus bieten将在一个陶瓷中使用für verschiedenste industrielle Anwendungen。< / p >

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我很高兴见到你Pulvergüten für我很高兴见到你erhältlich。< / p >

Typische Anwendungen

•斯塔克wärmeleitende Keramik
•Verbundkeramik, z. B. Verdampferschiffchen
•SiAlONs
•Kuhlkorper
•Elektrisch isolierende Verpackungen für Elektronik
•Tiegel für Metall- und Salzschmelzen
•Wärmeleitender Füllstoff für Polymere
•Komponenten für die Waferbearbeitung (Suszeptoren, Spannfutter, Träger)< / p >

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Typische Anwendungen

•Festschmierstoff für hochtemperature anwendungen
•Formtrennmittel für Druck- und Spritzguss
•罗斯托夫für kubisches BN
•Wärmeleitender Füllstoff für Polymere
•Verbundkeramik, z. B. Verdampferschiffchen
•Ausgangsmaterial für heißgepresste BN-Teile
•Feuerfestmaterialien< / p >

Weitere Güten sind auf Anfrage erhältlich。< / p >

Typische Anwendungen

•Keramische Schneidwerkzeuge
•Hochleistungsbauteile für Automotoren
•Hochleistungsbauteile für den Maschinenbau
•Lagerkomponenten wie Präzisionskugeln
•SiAlONs
•冶金(Thermoelementschutzrohre, Stielrohre, Tiegel)
•chemieieurwesen, z. B. Wärmetauscher
Textilmaschinen中的Funktionsteile
•LED-Anwendungen
•特伦米特尔(Trennmittel)在硅胶贫瘠的赫斯特隆(der Herstellung von Silizium-Barren)< / p >

Weitere Güten sind auf Anfrage erhältlich。< / p >

Typische Anwendungen

•LED-Anwendungen
•特伦米特尔(Trennmittel)在硅胶贫瘠的赫斯特隆(der Herstellung von Silizium-Barren)< / p >

50/50 TiC: TiN = 50:50 (Gewicht)< / p >

Ti(C,N) 70/30为Anfrage erhältlich。Carbidmischungen sind auf Anfrage erhältlich。< / p >

Typische Anwendungen

Hartmetalle (Werkzeuge and Zerspanung)
•陶瓷,schwarze陶瓷< / p >

在安弗瑞吉附近找到Pulver erhältlich。< / p >

Typische Anwendungen

•Additiv für Keramikbauteile zur Erhöhung der elektrischen Leitfähigkeit
•Bestandteil von Cermets and schwarzer Keramik
•Rohstoff für TiN-Sputtertargets (PVD)< / p >

CrN1 - x、铬2N, TaN和andere氮化物在Anfrage erhältlich。< / p >

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